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时间:2021-03-06乾进娱乐总代QQ手机版

  1:仪征市违法用地综合整治三年行动实施方案

在2019中国集成电路设计大会上针对这个问题中科院院士刘明坦言目前国内光刻技术与国外差距大约15年至20年。刘明院士表示目前光刻技术是整个集成电路中我们与国外差距最大的部分。

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